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據俄羅斯媒體報道，俄羅斯正在致力于研發和生產芯片微影光刻機。俄羅斯工業和貿易部副部長Vasily Shpak在接受媒體采訪時表示，明年將開始生產350納米微影光刻機，屆時俄羅斯將擁有自己的光刻機。此外，俄羅斯還計劃在2026年啟動用于生產130納米制程芯片的微影光刻機。這些設備的生產將在莫斯科、澤列諾格勒、圣彼得堡和新西伯利亞等現有工廠進行。
Vasily Shpak指出，目前全球只有兩家公司生產此類設備，分別是日本的NIKON和荷蘭的ASML。然而，這些設備對于半導體生產至關重要。他強調，如果沒有半導體主權，就沒有技術主權，這將使國家在國防安全和政治主權方面變得非常脆弱。雖然俄羅斯已經掌握了使用外國制造的65納米微影光刻機的技術，但由于外國公司被禁止向俄羅斯出口先進的微影光刻機，俄羅斯正在緊急開發自己的生產設備。
明年，俄羅斯將開始生產光刻機。Vasily Shpak表示，2024年將撥款2114億盧布（約23億美元）用于國內電子產品的開發。俄羅斯決定開發350納米到65納米微影光刻機的原因在于，這一技術范圍內的芯片廣泛應用于微控制、電力電子、電信電路、汽車電子等領域，這些應用大約占市場的60%。因此，這種設備在全球市場上有很大的需求，并且至少在未來10年內將持續存在需求。
當被問及可能面臨的阻力時，Vasily Shpak表示，他不想抱怨，因為所有問題都不是問題，這關乎俄羅斯擁有哪些機會以及設定的目標。俄羅斯將繼續努力發展自己的微影光刻機產業，以確保在半導體領域取得更大的自主權和競爭力。
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